常用集成整流桥的制作真实过程，ASEMI工艺制作！

常用集成整流桥制作

首先要介绍的是关于半导体的相关知识：

第一个是本征材料，本征材料也就是本征半导体，是指不含杂质且无晶格缺陷的纯净半导体，

也就是纯硅；第二个是N型硅，N型硅会掺入Ⅴ族元素--磷、砷、锑；第三个是P型硅，P型硅会掺入

Ⅲ族元素--镓、硼；最后一个PN结，PN结相信大家都比较熟悉，一块一侧掺杂成P型半导体，另一

侧参杂成N型半导体，中间二者相连的接触面称为PN结。

接下来就是半导体元件的制造过程，可分为两段。前端制程是晶圆处理制程和晶圆针测

制程；后端是构装和测试制程。ASEMI半导体的半导体元件晶圆处理制程都是采用进口晶圆，加辅以

进口晶圆扩散仪器进行处理，测试制程更是引进台湾KK设备健鼎设备进行一体化测试。

晶圆的处理制程主要工作是在矽晶圆上制作电路与电子元件，是所有制程中技术*复杂、资金投入*

多的过程，有的晶圆步骤可达数百道。晶圆针测则是在晶圆通过了WaferFad之后，晶圆形成一格格小

格的状态下，一一通过针测仪器以测试其电气特性，这个时候不合格的晶粒就会在这个环节被标上记号，

并且在后续步骤中被舍弃。

构装制程是利用塑胶或者陶瓷包装晶粒与配线进行封装，ASEMI半导体在此环节所采用的玻璃钝化工艺

进行构装。后续的测试制程就是各个品牌选用不同程度的仪器进行测试，ASEMI半导体所采用的健鼎设

备可以一次性测试六个参数，降低了多次测试损坏元器件的几率，大大提高了出厂合格率。

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